相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。现在我们的净化工程已经在朝着节能的方向发展了，除了人士以外，其他人很少知道净化工程的耗能量---大，时候普通写字楼的20倍，比美国更发达高出了15%。看到这些令人心惊的数字，我们的科学家们从节能的角度出发从---上出出发，安徽净化工程，设计出能够节省的相关设备。1000级 一般只对尘埃浓度做要求，用于光学器件，仪器等高精仪器等
10000级，用于液压设备的生产，和一些食品饮料的生产。
100000级，这个级别比较的低，对净化度要求不是---，---净化工程，主要在印刷厂，包装厂等。
10级：主要用于带宽小于2微米的半导体工业。其空气净化要求仅次于1级，并且我国半导体技术也在发展之中，在未来对洁净度的要求高。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，---是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。现在国内的相关企业很多，所以净化工程企业之间的竞争也很激烈，因为科技的发展使得市场对净化工程的要求高了起来，从以前的价格竞争变成了现在的价值竞争。所以相关的净化工程企业应该提高自身的自主研发能力，不断的发展---，才能适应这个竞争激烈的市场。
洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力。
净化工程在设计时，无论是新建还是重新改造的净化车间，都一定依照相关标准、规范进行。净化工程技术的兴起不过是上个世纪的事情，但今天净化技术发挥着重要作用则是有目共睹的。随着产品向着高、精方向发展，对净化车间的依赖度也越来越高。现在国内的相关企业很多，室内净化工程，所以净化工程企业之间的竞争也很激烈，净化工程公司，因为科技的发展使得市场对净化工程的要求高了起来，从以前的价格竞争变成了现在的价值竞争。所以相关的净化工程企业应该提高自身的自主研发能力，不断的发展---，才能适应这个竞争激烈的市场。
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